有田潔

プロフィール
氏名 有田 潔(Arita,Kiyoshi)
職名 教授
所属 工学部 総合システム工学科 電気情報工学系
メール arita@nishitech.ac.jp
担当科目
学部
  • 電子回路I
  • 電子回路II
  • 電子デバイス
  • 電気電子工学実験I
  • 電気電子工学実験II
  • 工学概説
  • 工学実験
  • スタートアップセミナーI
  • スタートアップセミナーII
主な卒業研究テーマ
  • プラズマエッチングプロセスの研究(仮称)
その他(社会活動,委員会,サークル,趣味等)
  • 三次元半導体研究センター事業運営委員
趣味
  • 音楽鑑賞
学位・学歴
取得学位
  • 博士(情報工学)
  • MBA(経営学修士)
学歴
  • 平成10年3月 九州工業大学大学院 情報工学研究科 博士後期課程修了
  • 平成20年3月 九州大学大学院 経済学府 産業マネジメント専攻修了(九州大学ビジネススクール)
研究活動
研究キーワード
  • 半導体プロセス
  • プラズマエッチング
  • プラズマダイシング
  • プラズマクリーニング
  • APC(Advanced Process Control)
主な研究業績

論文

  • 有田潔, ”プラズマエッチング技術によるウエハ薄型化加工”, 3次元システムインパッケージと材料技術(シーエムシー出版)第三編第7章担当, 2007.
  • 有田潔,酒見省二, 浅野種正, “プラズマクリーニングにおけるチャージアップダメージ”, 5th Micro and Assembly Technology in Electronics PP35-40, 1999.
  • K.Arita, H.Takahara and T.Asano, “Enhanced of Gate Oxide in Negative-Gas Plasma during Reactive Ion Etching”, Journal of Vacuum Science & Technology B. (Vol.16, No.2, PP670-673).
  • K.Arita, M.Akamatsu and T.Asano, “Suppressing Plasma Induced Degradation of Gate Oxide by Using Silicon-On-Insulator Structure”, Jpn. J. Appl. Phys. Vol.37, PP.1278-1281, 1998.
所属学会
  • エレクトロニクス実装学会
工学部総合システム工学科(機械工学系)
工学部総合システム工学科(電気情報工学系)
工学部総合システム工学科(土木工学系)
デザイン学部建築学科
デザイン学部情報デザイン学科