石田雄二

プロフィール
氏名 石田 雄二(Ishida,Yuji)
職名 教授
所属 工学部 総合システム工学科 機械工学系
メール ishida@nishitech.ac.jp
担当科目
学部
  • ものづくり演習I
  • 機械工学実験
  • 設備保全I・II・III
  • CAD応用
主な卒業研究テーマ
  • ロバスト設計技術
  • 予知・予測技術
その他(社会活動,委員会,サークル,趣味等)
趣味
  • テニス
  • 歴史
  • お茶
学位・学歴
取得学位
  • 博士(工学) 2010年3月
学歴
  • 九州大学大学院 システム情報科学府 博士課程 修了 2010年3月
  • 東北大学大学院 工学研究科 博士課程前期2年 修了 1991年3月
  • 東北大学工学部 卒業 1989年3月
研究活動
研究キーワード
  • 信頼性・保全性工学
  • データサイエンス
  • 品質工学
  • 統計的品質管理(SQC)
主な研究業績
  • 日本トライボロジー学会論文賞 2014年6月
  • MNC(Microprocesses and Nanotechnology Conference)2006 Award for Outstanding Paper 2007年10月
  • リフロー用はんだの機能性評価: 日高隆太, 石田雄二, 長谷部光雄, 品質工学会誌, Vol. 25, No. 2 (2017) 33-41.
  • Preliminary Measurements of Electrical Micropitting in Grease-Lubricated Point Contacts:Kenji Sunahara, Yuji Ishida, Shinji Yamashita, Masaharu Yamamoto, Hiroshi Nishikawa,Kenji Matsuda Kenji Matsuda and Motohiro Kaneta, Tribology Transactions, 54 (2011) 730-735.
  • Droplet Ejection Behavior in Electrostatic Inkjet Driving: Yuji Ishida, Keigo Sogabe, Shintaro Kai and Tanemasa Asano, Jpn. J. Appl. Phys. 47 (2008) 5281-5286.
  • Inkjet Printing of Nickel Nanosized Particles for Metal-Induced Crystallization of Amorphous Silicon: Yuji Ishida, Gou Nakagawa and Tanemasa Asano, Jpn. J. Appl. Phys. 46 (2007) 6437-6443.
  • 硬質磁性粉末の製造方法(特許第3947883号): 石田雄二, 加来久幸
所属学会
  • 応用物理学会
  • 日本金属学会
  • エレクトロニクス実装学会
  • 品質工学会
工学部総合システム工学科(機械工学系)
工学部総合システム工学科(電気情報工学系)
工学部総合システム工学科(土木工学系)
デザイン学部建築学科
デザイン学部情報デザイン学科